Overwatch Retribution ได้รับแรงบันดาลใจจาก Left 4 Dead ของ Valve

โพสโดย 2026-06-19

Blizzard ต้องการให้ผู้เล่นนึกถึง Overwatch Retribution ราวกับว่ามันเป็นปริศนา มีภารกิจหลายอย่าง เช่น การเผชิญหน้ากับนักฆ่า Talon ที่ผู้เล่นทั้งสี่คนต้องทำงานเพื่อแก้ปัญหา

ผู้ช่วยผู้กำกับเกม Overwatch Aaron Keller และอาจารย์ใหญ่ วิศวกรซอฟต์แวร์ Adrian Finol บอกกับ PCGamesN ว่าการทะเลาะวิวาท Overwatch Archives ส่วนใหญ่ได้รับแรงบันดาลใจจาก Left 4 Dead ของ Valve Corporation การทะเลาะวิวาทสำหรับผู้เล่นสี่คนได้รับแรงบันดาลใจอย่างมากจากเกมผู้เล่นสี่คนที่ผสมซอมบี้ “เราเรียนรู้มากมายจากเกมนั้น” Finol กล่าวกับ PCGamesN.

ที่เกี่ยวข้อง: Symetra ของ Overwatch จะได้รับการเปลี่ยนแปลงที่ "น่าทึ่ง" และ "สำคัญ" ในฤดูร้อนนี้

เช่นเดียวกับ Left 4 Dead ที่ Overwatch Retribution ตั้งเป้าที่จะเป็นเกมที่ทำให้ผู้เล่นกลับมาเล่นอีกเรื่อยๆ ไม่ควรน่าเบื่อหลังจากรอบเดียว แทน Blizzard ต้องการให้ผู้เล่นบูทการทะเลาะวิวาทจนถึงเหตุการณ์ Overwatch Archives Archivesจะสิ้นสุดในวันที่ 30 เมษายน

“เราต้องการดูวิธีการเล่นเกมซ้ำ” Finol กล่าว “เรารู้สึกเหมือนกับว่าเมื่อคุณเล่น Uprising ครบสิบครั้งแล้ว คุณจะเห็นทุกสิ่งที่มีให้ สำหรับ Retribution เราคำนึงถึงสิ่งนั้นและเราต้องการให้คุณเล่นได้นานเท่าที่คุณต้องการ”

เรื่องราวจะเผยออกมาในรูปแบบใหม่ Finol กล่าวเสริม ผู้เล่นไม่ต้องหยุดและรอในบางจุดเพื่อให้การดำเนินการดำเนินต่อไป เช่นเดียวกับที่พวกเขาทำในเหตุการณ์ Overwatch Uprising วัตถุประสงค์หลักในโหมดนั้นคือการแฮ็กแต่ละจุด ซึ่งต้องใช้เวลา ในทางกลับกัน เรื่องราวสำหรับ Overwatch Retribution จะบอกเล่าในขณะที่การกระทำเคลื่อนไปตามถนนในแผนที่

“เรายังต้องการเพิ่มช่วงเวลาสำคัญเพิ่มเติมซึ่งหน่วยพิเศษของเรานำมาด้วย” Finol กล่าว “รายการพิเศษเป็นโอกาสที่ดีสำหรับผู้เล่นในการหยุดและจัดการกับสถานการณ์”

ตัวละครพิเศษที่เพิ่มเข้ามาใน Overwatch Retribution จะเปลี่ยนไดนามิกของเกม ทั้งสำหรับผู้เล่นและนักออกแบบ Finol กล่าวว่าพิเศษตัวละครให้นักออกแบบของ Overwatch เล่นด้วยการผสมผสานและชิ้นส่วนต่าง ๆ ของปริศนา Retribution ซึ่งทำให้เป้าหมายของความสามารถในการเล่นของโหมดนี้ดีขึ้น

Overwatch Archives และการทะเลาะวิวาทครั้งใหม่ และการกบฏจากปีที่แล้ว—เปิดตัวเมื่อวันที่ 10 เมษายน จะอยู่ถึงวันที่ 30 เมษายน พร้อมกับสกินใหม่และเครื่องสำอางอื่นๆ